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【证券研报】基础化工行业专题:英伟达Rubin架构发布 CCL上游材料体系升级

wang wang 发表于2026-06-13 10:35:50 浏览1 评论0

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【证券研报】基础化工行业专题:英伟达Rubin架构发布 CCL上游材料体系升级
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摘要

英伟达2026年推出的Vera Rubin架构正推动AI服务器硬件底层重构,研报指出PCB已从过往承担板内连接的“被动载体”,升级为支撑机架内高速互联的“主动介质”,部分原属铜缆、连接器的价值向PCB转移,带动产业链“半导体化”演进。这一变化直接传导至上游覆铜板(CCL)环节:Rubin架构下CCL等级从GB300的M8跃升至M9,未来Rubin Ultra更将向M10迭代,对应介电损耗(Df)从0.001压降至0.0005以下,支撑224Gbps乃至448Gbps的超高速信号传输。与此同时,普通服务器也正经历平台迭代,Intel Birch Stream、AMD Zen5平台推动CCL从Very Low Loss向Ultra Low Loss升级,层数普遍提升至18-22层,双重需求拉动下,全球高速CCL市场有望从2025年的不足50亿美元增至2027年的超100亿美元,年复合增速达40%。

CCL性能升级的核心是四大主材的协同迭代。电子树脂端,碳氢树脂、聚苯醚(PPO)已成为M8-M9体系核心,聚四氟乙烯(PTFE)凭借极低的介电性能成为M10潜在方案,圣泉集团、东材科技已在相关高端树脂实现量产突破;电子玻纤布端,适配M9的第三代石英纤维布(Q布)价格是普通E布的40倍,受日本丰田织机产能约束,叠加AI用薄布生产效率仅为普通布的1/3,供需持续紧张,宏和科技、菲利华等国内企业正加速切入高端认证;硅微粉填料则从辅助材料升级为核心功能材料,M9级CCL需采用纳米级球形硅微粉,填充比例与纯度要求同步提升,联瑞新材相关超纯产品已进入量产阶段。整体来看,AI算力升级正带动上游化工材料进入量价齐升的技术红利期。

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引用内容
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参考研报&来源

基础化工行业专题:英伟达Rubin架构发布 CCL上游材料体系升级

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