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东吴证券研报解读!拓荆科技(688072) 2025 年报:Q4 业绩高增,薄膜沉积 + 先进封装双轮驱动

wang wang 发表于2026-05-01 20:16:42 浏览2 评论0

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东吴证券研报解读!拓荆科技(688072) 2025 年报:Q4 业绩高增,薄膜沉积 + 先进封装双轮驱动
近日,东吴证券发布拓荆科技(688072)2025 年报点评报告,维持 “买入” 评级。
报告指出,拓荆科技 2025 年业绩实现高速增长,PECVD、ALD 及先进封装设备持续放量,在手订单充足为后续增长奠定坚实基础。作为国产薄膜沉积设备龙头,拓荆科技正充分受益于半导体国产化浪潮与先进封装技术升级,长期成长逻辑清晰。

一、全年业绩稳健增长,Q1 盈利能力大幅提升

2025 年拓荆科技交出亮眼成绩单,全年实现营业总收入 65.19 亿元,同比增长 58.87%;归母净利润 9.27 亿元,同比增长 34.67%;扣非净利润 7.23 亿元,同比大幅增长 103.1%,盈利质量显著提升。
分季度来看,Q4 单季营收 22.99 亿元,同比增长 25.9%,延续高增态势;2026 年 Q1 业绩进一步爆发,实现营收 11.12 亿元,同比增长 57.0%,归母净利润 5.71 亿元同比扭亏为盈,环比增长 54.1%。
盈利能力方面,2026Q1 公司毛利率达到 41.69%,同比提升 21.8 个百分点,环比提升 3.7 个百分点;销售净利率飙升至 50.54%,同比提升 72 个百分点,主要得益于收入规模扩大、产品结构优化以及高毛利先进制程设备占比提升。
研发投入方面,公司 2025 年研发费用达 8.59 亿元,同比增长 13.7%,持续加码核心技术攻关,为长期技术领先提供保障。

二、核心业务全面放量,技术壁垒持续巩固

公司三大核心业务线均实现快速增长,产品矩阵不断完善,技术壁垒持续巩固。

1.PECVD 设备

作为公司第一大业务,2025 年实现销售收入 51.42 亿元,同比增长 75.27%。目前已实现全系列 PECVD 介质薄膜材料覆盖,基于新平台研发的 ONO 叠层、ACHM 等产品实现产业化放量,Lok-II、OPN 等先进工艺设备通过客户验证并获得复购订单。

2.ALD 设备

增速最为亮眼,全年销售收入 3.01 亿元,同比增长 191.8%。公司是国产 ALD 工艺覆盖度第一的厂商,SiO2、SiN 等工艺设备实现客户端放量,首台 TiN 工艺产品通过客户验证,截至 2025 年末累计出货超过 140 个反应腔。

3.先进封装设备

晶圆对晶圆(W2W)混合键合设备获得重复订单并实现量产,新一代高速高精度产品已发货至客户端验证,键合精度、产能等关键指标大幅提升;首台 W2W 熔融键合设备也已通过客户验证,打开新的增长空间。

三、在手订单超百亿,盈利预测上调增长可期

订单方面,截至 2025 年末公司在手订单金额约 110 亿元,合同负债达 48.52 亿元,同比增长 62.7%,充足的订单储备为未来 1-2 年的收入增长提供了有力保障。存货规模同步增长至 78.26 亿元,同比增长 8.5%,公司正积极备货以应对下游旺盛需求。
基于公司强劲的增长势头,东吴证券上调 2026-2027 年归母净利润预测至 17.32 亿元、25.31 亿元(原值 15 亿元、22 亿元),预计 2028 年归母净利润 30.32 亿元。以当前 423.67 元的收盘价计算,对应 2026-2028 年动态 PE 分别为 69 倍、47 倍、40 倍,维持 “买入” 评级。

四、风险提示

另外,研报指出,拓荆科技面临晶圆厂资本开支下滑风险,若下游存储、逻辑芯片厂商扩产节奏放缓,将直接影响设备采购需求;同时存在国产化率提升不及预期风险,若海外厂商加大市场竞争力度或客户验证进度延迟,可能影响公司市场份额提升。
免责声明:具体数据以交易所及公司官方公告为准,以上内容均为个人局限性研究,可能有不对之处,不作为投资建议。若据此入市,后果自负,股市有风险,投资需理性!
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